ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜半導体ライン向けに 中国上海で大型投資 最大６７２０億円の規模
日経マイクロデバイス 第180号 2000.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第180号（2000.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全258字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （37kb） |
| 雑誌掲載位置 | 164ページ目 |
ＬＳＩ製造設備投資ＬＳＩビジネス 中国上海で台湾メーカーによる半導体ラインへの大型投資の案件が出てきた。Ｃｈｉｎａ Ｔｉｍｅｓにより，台湾Ｎａｎｙａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏｒｐ．を創設した王文洋氏らが「宏力微電子」という会社を設立し，最大６７２０億円（６４億米ドルを１０５円／米ドルで換算）を投じ中国の上海浦東工業区に２００ｍｍウエーハ・ラインを３本，３００ｍｍウエーハ・ラインを３本建設するとい…
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