Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＩＢＭらの４社連合４５ｎｍのバルクＣＭＯＳプロセスを発表
日経マイクロデバイス 第266号 2007.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第266号（2007.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全387字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （322kb） |
| 雑誌掲載位置 | 118〜119ページ目 |
「２００７ ＶＬＳＩ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｓｈｏｒｔ Ｃｏｕｒｓｅ」において，米ＩＢＭ Ｃｏｒｐ．，韓国Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．，独Ｉｎｆｉｎｅｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＡＧ，シンガポールＣｈａｒｔｅｒｅｄ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｌｔｄ．の４社は共同で，グラフィックス処理用ＬＳＩなどに向ける４５ｎｍ世代のバルクＣＭＯＳプ…
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