Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜アルバック研究開発用の超高真空スパッタを発売少量生産向けにも
日経マイクロデバイス 第261号 2007.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第261号（2007.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全561字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （931kb） |
| 雑誌掲載位置 | 92ページ目 |
アルバックは，真空度が高くパーティクルの影響を減らした研究開発用のスパッタリング装置「ＪＳＰ−８０００」の販売を開始した。ハード・ディスク装置のヘッドに用いる磁性材料多層膜や，太陽電池向けの透明電極，ＭＥＭＳ（ｍｉｃｒｏ ｅｌｅｃｔｒｏ ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｓｙｓｔｅｍｓ）用の絶縁材料などの研究開発と少量生産に向ける。通常のスパッタ装置の真空度は５×１０−６Ｐａ程度だが，同装置は７×１０−７Ｐ…
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