Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 「セミコン・ジャパン２００６」特集〜スループットを５０％向上
日経マイクロデバイス 第258号 2006.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第258号（2006.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全500字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （500kb） |
| 雑誌掲載位置 | 198ページ目 |
スループットを同社従来機の１１７枚／時から１８０枚／時へ約５０％向上させたｉ線露光装置（図８）。スループットの向上は，ステージを軽量化して移動速度を高めるとともに，ウエーハの処理間隔を短縮して実現した。スループットを高めるとステージの位置合わせ精度が低下しやすいが，二つの工夫によって位置合わせ精度も３０％高めている。第１に，装置の機械的な振動による影響を抑制した。投影レンズを固定せずに吊り下げて…
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