Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 「セミコン・ジャパン２００６」特集〜複数の測長ＳＥＭと組み合わせ可能に
日経マイクロデバイス 第258号 2006.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第258号（2006.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全533字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （500kb） |
| 雑誌掲載位置 | 197ページ目 |
複数の測長ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）と組み合わせて使えるようにしたマスク・データの照合ソフトウェア（図５）。マスク・パターンの設計データと，測長ＳＥＭで測ったウエーハ上の回路パターンのデータを比較照合する機能を備える。照合結果はＯＰＣ（光近接効果補正）データの作成に利用できる。従来の「ＤｅｓｉｇｎＧａｕｇｅ」では測長ＳＥＭを直接制御していたため，測長ＳＥＭごとにＤｅｓｉｇｎＧａｕｇｅが必要だった…
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