Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 「セミコン・ジャパン２００５」特集〜異物検出感度を４μｍに向上
日経マイクロデバイス 第246号 2005.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第246号（2005.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全541字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （498kb） |
| 雑誌掲載位置 | 132ページ目 |
異物の検出感度が４μｍのペリクル／フォトマスク異物検査装置（図５）。設計ルール９０ｎｍ以降の半導体デバイス用フォトマスクを狙う。波長５３２ｎｍのレーザー光を異物にあてて，散乱光をＣＭＯＳセンサーで検出する。これまで使われていたステッパに付属する異物検査装置では，感度は１５〜３０μｍ程度だったが，今回の装置は４μｍにまで高めた。「特別なＣＭＯＳセンサーを使う」（レーザーテック）など，光学系を最適設…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全541字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 「セミコン・ジャパン２００５」特集〜処理速度を従来機比で約３０％向上
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 「セミコン・ジャパン２００５」特集〜レジストをあらかじめ塗布
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 「セミコン・ジャパン２００５」特集〜多層膜の検査感度を向上
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 「セミコン・ジャパン２００５」特集〜スループットを５０％向上
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 「セミコン・ジャパン２００５」特集〜Ｓｉウエーハに付着する微粒子を５０％削減
