Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 業界最大のＮＡ１：２を実現〜液浸ＡｒＦ露光装置「ＸＴ：１７００ｉ」
日経マイクロデバイス 第244号 2005.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第244号（2005.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全617字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （304kb） |
| 雑誌掲載位置 | 106ページ目 |
現時点で業界最大となる開口数（ＮＡ）１．２を実現した液浸ＡｒＦ露光装置（図１）。露光装置は光の波長や露光条件が同じならＮＡが高いほど高解像度化を実現できる。今回はＮＡを１．２に高めることで，４５ｎｍの解像度を達成した。一般に，屈折レンズだけで構成する全屈折型の光学系では，高ＮＡ化に伴ってレンズ口径が巨大化し，コストが高くなってしまう。今回は屈折レンズと反射ミラーを組み合わせた反射屈折型の光学系を…
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