Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ ドライ露光装置と同等の１３０枚／時を達成〜液浸ＡｒＦ露光装置「ＮＳＲ−Ｓ６０９Ｂ」
日経マイクロデバイス 第244号 2005.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第244号（2005.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全568字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （304kb） |
| 雑誌掲載位置 | 106ページ目 |
スループットをドライＡｒＦ露光装置と同等に高めた液浸ＡｒＦ露光装置（図２）。最小加工寸法が５５ｎｍのＬＳＩ製造に対応できる。開口数（ＮＡ）は１．０７。スループットは同社のドライＡｒＦ露光装置「ＮＳＲ−Ｓ３０８Ｆ」の１４０枚／時とほぼ同等の１３０枚／時である。高いスループットを実現できたのは，「タンデム・ステージ」方式を導入したためである。液浸露光装置では通常，ドライ露光装置に比べてスループットが…
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