Ｃｏｖｅｒ　Ｓｔｏｒｙ　第３部　製造・材料　製造＆設計イノベーション　第３部　要素・技術〜製造・材料●リソグラフィ　ナノインプリント技術で　超微細デバイスを低コストに量産
日経マイクロデバイス　第242号　2005.8.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第242号（2005.8.1）
ページ数	2ページ　（全2453字）
形式	PDFファイル形式　（199kb）
雑誌掲載位置	68〜69ページ目

岡崎　信次超先端電子技術開発機構（ＡＳＥＴ）　２０１０〜２０２０年の「リソグラフィ」におけるイノベーションの一例として，ナノインプリント技術が挙げられる（図１）。これは，微細な溝を形成したマスクをレジストに押し当ててパターンを転写する技術である。ナノインプリント以外にもさまざまな技術の可能性があるが，いずれもリソグラフィへの要求を完全に満たすことは難しい。しかし，デバイス側のイノベーションと組み合…