Ｉｎｓｉｄｅ ＬＳＩ イメージ・センサーにも“微細化の限界”ＭＯＳ型を中心に〜イメージ・センサーにも“微細化の限界” ＭＯＳ型を中心に新たな三つの競争軸
日経マイクロデバイス 第238号 2005.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第238号（2005.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全5943字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （168kb） |
| 雑誌掲載位置 | 65〜70ページ目 |
イメージ・センサーにも“微細化の限界”が訪れている。これまで画素寸法を微細化することでイメージ・センサーは進化してきた。そのペースが今後１〜２年で鈍化することになる。微細化が差異化要因でなくなることから，米Ｍｉｃｒｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， Ｉｎｃ．のようなＭＯＳ型でコスト競争力に強みを持つところが勢力を拡大する可能性が高くなる。これまで覇権を握ってきた日本のセンサー・メーカーは，かつての“ＤＲ…
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