Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ セミコンジャパン特集〜スループットを２倍に向上
日経マイクロデバイス 第234号 2004.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第234号（2004.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全626字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （217kb） |
| 雑誌掲載位置 | 124ページ目 |
スループットを従来機の２倍に高めたインライン方式の電子ビーム（ＥＢ）ウエーハ検査装置（図６）。データ処理速度やスキャン速度を高めたことによって高スループット化を実現した。微細化と新材料の導入によってデバイス内部に埋もれた微小な欠陥が増えたことから，光の代わりにＥＢを利用する検査装置の必要性が高まっている。例えば，Ｃｕ配線に生じる微小な欠陥や，アスペクト比の高いコンタクトやビアの底部に生じる欠陥な…
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