Ｉｎｓｉｄｅ Ｍｅｍｏｒｙ〜Ｇｅｎｕｓ●３０００万サイクル使えるバルブと １０ｎｍ／分の成膜速度を実現
日経マイクロデバイス 第227号 2004.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第227号（2004.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全3157字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （255kb） |
| 雑誌掲載位置 | 54〜55ページ目 |
Ｔｏｍ ＳｅｉｄｅｌＣＴＯＳａｓａｎｇａｎ ＲａｍａｎａｔｈａｎＶＰ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ＆Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ米Ｇｅｎｕｓ， Ｉｎｃ． ＡＬＤ技術が，半導体の製造技術として使えるかどうかは次の四つの要素で決まる。すなわち，（１）産業ニーズのロードマップに合わせられるか，（２）生産性を向上できるか，（３）製造技術として実際に使えるか，（４）プロセスに柔軟性を持たせられるかである。われわれ…
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