Ｃｏｖｅｒ Ｓｔｏｒｙ Ｐａｒｔ１ 囲み〜次世代露光は“混沌”から脱却 液浸ＡｒＦとＦ２が正面対決へ
日経マイクロデバイス 第224号 2004.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第224号（2004.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全719字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （244kb） |
| 雑誌掲載位置 | 28ページ目 |
「混沌とする露光技術の開発にようやく道筋が見え始めた」。このような認識が露光技術者の間に広がっている。目前の６５ｎｍノードは，高開口数（ＮＡ）のＡｒＦエキシマ・レーザー露光技術で乗り切る。４５ｎｍは，液浸ＡｒＦ露光技術とＦ２エキシマ・レーザー露光技術が正面対決する。３２ｎｍ以降はＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光が担う。 特に注目を集めているのが，「液浸ＡｒＦ ｖｓ． Ｆ２」で…
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