Ｒｅｐｏｒｔ［Ｌｏｇｉｃ］〜レーザー・アニールは量産に使えるか？ ９０〜２０ｎｍノードの浅い接合を形成
日経マイクロデバイス 第218号 2003.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第218号（2003.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全987字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （48kb） |
| 雑誌掲載位置 | 112ページ目 |
レーザー・アニール技術が，ＬＳＩ量産プロセスに入る可能性が高まっている。まだ，ＬＳＩ各社が本格導入を決めたわけではないが，ここへ来て採用を検討するところが増えている。この技術の実用化を積極推進する米Ｕｌｔｒａｔｅｃｈ， Ｉｎｃ．は６月末に装置の製品計画を発表したが，同社Ｃｈａｉｒｍａｎ ａｎｄ ＣＥＯのＡｒｔｈｕｒ Ｗ． Ｚａｆｉｒｏｐｏｕｌｏ氏はインタビューに応じ，２００３年末までに１号機を，…
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