μレポート［ＬＳＩ製造］ 囲み〜米Ｉｎｔｅｌの露光戦略 「Ｄｕａｌ Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ」を実施
日経マイクロデバイス 第214号 2003.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第214号（2003.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全831字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （123kb） |
| 雑誌掲載位置 | 24ページ目 |
米Ｉｎｔｅｌ Ｃｏｒｐ．Ｉｎｔｅｌ Ｆｅｌｌｏｗ， Ｄｉｒｅｃｔｏｒ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ＣＥＯＰｅｔｅｒ Ｊ． Ｓｉｌｖｅｒｍａｎ氏 ２年サイクルの微細化を確実に実施するために，露光技術の開発リスクを最小限にする「Ｄｕａｌ Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ」戦略を実施していく。これは，既存の露光技術が限界に近付いてきた段階で，既存技術の延命と次世代技術の開発を並行して進める戦略である。こうして，量産段階…
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