技術レター［ＬＳＩ製造］〜次世代の生産技術や　歩留まり解析技術が　注目集めた「ＩＳＳＭ２０００」
日経マイクロデバイス　第185号　2000.11.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第185号（2000.11.1）
ページ数	1ページ　（全968字）
形式	PDFファイル形式　（26kb）
雑誌掲載位置	66ページ目

ＬＳＩプロセス大口径化学会　３００ｍｍウエーハ，小型メッキ，スキャン塗布といった次世代技術や，歩留まり解析に関する技術が「９ｔｈ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　ｏｎ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ（ＩＳＳＭ２０００）」で注目を集めた（３００ｍｍウエーハ関連技術は本号，ｐｐ．１３５−１４０を，小型メッキ技術は同，ｐｐ．７８−７９を，発表の詳細や他のセッション…