ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜「Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２０００」 ＫｒＦ露光が０．１３μｍを 完全に射程にとらえる
日経マイクロデバイス 第178号 2000.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第178号（2000.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全2164字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （38kb） |
| 雑誌掲載位置 | 139ページ目 |
露光技術微細化ＫｒＦ 設計ルール０．１３μｍをＫｒＦエキシマ・レーザー露光技術が完全に射程にとらえた。こうした状況が２月２７日〜３月２日に米国サンタクララで開かれた「ＳＰＩＥ’ｓ ２５ｔｈ Ａｎｎｕａｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２０００）」で顕著に表れた。半年前まで０．１３μｍをＫｒＦ露光で実現するか…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全2164字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜「ＮＶＳＭＷ ２０００」 混載向けのセル構造の 研究成果が相次ぐ
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜通信システムＬＳＩ向けの ＳＲＡＭアーキテクチャを 米Ｌｕｃｅｎｔが開発
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜世界初，１０Ｇビット／秒を ＣＭＯＳで実現する技術が 「ＶＬＳＩ シンポジウム」に登場
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜２周波励起技術の訴訟で 米ＴｅｇａｌがＴＥＬに勝訴 ＴＥＬ側はこれに反論
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜ＳＯＩウエーハの量産に 向けた動きがキヤノンと 米ＳｉＧｅｎから相次ぐ
