Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜マスク製造コストを１５％削減する４５ｎｍ世代向けマスク描画装置
日経マイクロデバイス 第264号 2007.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第264号（2007.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全381字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （308kb） |
| 雑誌掲載位置 | 97ページ目 |
スウェーデンＭｉｃｒｏｎｉｃ Ｌａｓｅｒ Ｓｙｓｔｅｍｓ ＡＢは，６５ｎｍ世代と４５ｎｍ世代のマスク製造に使うレーザー・マスク描画装置「Ｓｉｇｍａ ７５００ＩＩ」を開発した。同製品は，１／２００縮小で２０００ショット／秒の描画ができる。「レーザー・マスク描画装置の使用により，マスク描画コストを４０％削減できる。それは，マスク製造コストの１５％前後に相当する」（Ｐｈｏｔｏｍａｓｋ Ｊａｐａｎ ２０…
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