Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ ４５ｎｍ以下の量産ラインに対応〜４５ｎｍ以下の量産ラインに対応
日経マイクロデバイス 第263号 2007.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第263号（2007.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全538字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （1081kb） |
| 雑誌掲載位置 | 134ページ目 |
３σで０．５ｎｍ以下の測定精度と，１時間に３０枚以上の処理を両立した，ＬＳＩ量産ライン向け原子間力顕微鏡（図４）。同社従来品に比べて測定精度は約２倍に，処理速度は約４倍に高まっている。加工線幅が４５ｎｍ以下のＬＳＩ量産ラインに対応する。同社の原子間力顕微鏡では，測定位置で探針を垂直に下ろして測定対象物に触させ，ある一定の接触力が得られた時点で止めて引き上げ，横に移動してまた針を下ろす，という動作…
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