Ｎｅｗ　Ｐｒｏｄｕｃｔｓ　４５〜３２ｎｍ世代に対応〜４５〜３２ｎｍ世代に対応
日経マイクロデバイス　第263号　2007.5.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第263号（2007.5.1）
ページ数	1ページ　（全523字）
形式	PDFファイル形式　（1081kb）
雑誌掲載位置	135ページ目

　４５ｎｍ向けフォト・マスクの量産と３２ｎｍ向けの開発に使えるフォト・マスク検査装置（図５）。対物レンズの開口数（ＮＡ）を高めることで，解像度を従来機の９０ｎｍから７２ｎｍへと２０％高めた。解像度を高めると一般に検査時間が長くなるが，マスクの透過光と反射光を同時に検出できるようにすることで，１検査当たりの所要時間を２時間以内に抑えている。また，ＮＡを高めると焦点深度が浅くなり，得られる像が装置の機…