Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜４５〜３２ｎｍで岐路に立つＬＳＩメーカー“微細化追求型”時代の終焉へ
日経マイクロデバイス 第261号 2007.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第261号（2007.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1762字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （819kb） |
| 雑誌掲載位置 | 85ページ目 |
４５〜３２ｎｍ世代を境に，ＬＳＩメーカーの競争軸が，微細化から独自の製品戦略へ変わろうとしている。経済的なメリットを失わずに微細化を追求できるメーカーは，わずか２〜３社に絞られる。半導体業界を巡るそのような“地殻変動”の動きが，ここへ来て相次いで出てきた。 それを象徴するのが，微細化追求型のＬＳＩメーカーの代表格だった業界第３位の米Ｔｅｘａｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．（ＴＩ）が下した決断…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全1762字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜Ｉｎｔｅｌのプロセサ向け４５ｎｍメタル・ゲート／ｈｉｇｈ−ｋを導入
Ｒｅｐｏｒｔ［ＭＥＭＳ］〜生体との連携を狙うＭＥＭＳデバイスが続々
Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜実装時のｌｏｗ−ｋ膜対応を競う機械強度や吸湿などの弱点を補完
Ｒｅｐｏｒｔ［ＦＰＤ］〜超小型プロジェクタ向け緑色レーザーの開発相次ぐ
Ｒｅｐｏｒｔ［ＥＤＡ］〜ＮＥＣエレがセルベースＬＳＩ戦略を転換高性能品を休止し，低電力品に注力
