Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＡＳＭＬ，「Ａｌｐｈａ Ｄｅｍｏ Ｔｏｏｌ」出荷に続き 試作用ＥＵＶ露光装置も受注
日経マイクロデバイス 第258号 2006.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第258号（2006.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全207字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （266kb） |
| 雑誌掲載位置 | 181ページ目 |
オランダＡＳＭＬ Ｈｏｌｄｉｎｇ ＮＶ（ＡＳＭＬ）は，ＥＵＶ露光の商用化に関する進捗状況を発表した。同社は２００６年８月，プロセス開発向けのフルフィールドＥＵＶ露光装置「Ａｌｐｈａ Ｄｅｍｏ Ｔｏｏｌ」を，ベルギーＩＭＥＣおよび米Ａｌｂａｎｙ ＮａｎｏＴｅｃｈ向けに出荷した。さらに，「ユーザーから初めて試作用のＥＵＶ装置を受注した」（同社）と言う。試作用装置の出荷は，早ければ２００９年になる。（…
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