Ｒｅｐｏｒｔ［ＥＤＡ］〜ＳＴＡＲＣが新設計フロー構築へ ６５ｎｍと４５ｎｍに焦点
日経マイクロデバイス 第257号 2006.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第257号（2006.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2503字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （220kb） |
| 雑誌掲載位置 | 102〜103ページ目 |
半導体理工学研究センター（ＳＴＡＲＣ）は，６５ ｎｍ世代と４５ｎｍ世代のプロセスを狙い，チップ設計のレファレンス・フローの開発プロジェクトを進めている注１）。ＳＴＡＲＣは９０ｎｍ世代のチップ設計のレファレンス・フロー「ＳＴＡＲＣＡＤ−２１」を開発するプロジェクトを２００６年３月に完了しており，今回のプロジェクトでそのフローの拡充を図る。今回開発するフローをＳＴＡＲＣは「ＳＴＡＲＣＡＤ−ＣＥＬ（Ｓ…
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