Ｔｕｔｏｒｉａｌ 低アレルギーのイオン打ち込みと，短時間アニールで〜アニール技術● ３ケタ速い昇降温で特性劣化を抑制
日経マイクロデバイス 第253号 2006.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第253号（2006.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2623字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （515kb） |
| 雑誌掲載位置 | 108〜109ページ目 |
樹山 弘喜大日本スクリーン製造半導体機器カンパニー ソース・ドレインのアニール技術は，Ｓｉウエーハを電気炉で加熱する方式から光で加熱する方式に進化してきた。電気炉では数十枚ものウエーハを石英チューブごと加熱するので，昇温や降温に時間がかかる。このため，ソース・ドレインの表面に打ち込んだ不純物がＳｉ内部に拡散し，トランジスタ特性が劣化してしまう。 そこで２０年前に光加熱方式のアニール技術が登場した。…
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