Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜先端リソグラフィを使いこなす ＤＦＭ関連ツールの発表が相次ぐ
日経マイクロデバイス 第251号 2006.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第251号（2006.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全504字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （118kb） |
| 雑誌掲載位置 | 83ページ目 |
リソグラフィの弱点を補うＤＦＭ（ｄｅｓｉｇｎ ｆｏｒ ｍａｎｕｆａｃｔｕｒａｂｉｌｉｔｙ）技術が欠かせなくなってきた。特に６５ｎｍノード（ｈｐ９０）以降は設計ルールを守っていても，実際に露光すると回路パターンの中に解像不良となる部分（ホット・スポット）が紛れ込むケースが増えてきた。このような問題を解決するためのＥＤＡツールの発表が相次いでいる。米Ｍｅｎｔｏｒ Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｃｏｒｐ．が３月に…
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