Tech−On!Ranking[LSI]〜450mmウエーハに移行するための取り組みを 米ISMIが紹介
日経マイクロデバイス 第251号 2006.5.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第251号(2006.5.1) |
---|---|
ページ数 | 2ページ (全446字) |
形式 | PDFファイル形式 (118kb) |
雑誌掲載位置 | 82〜83ページ目 |
米International SEMATECH Manufacturing Initiative(ISMI)は,現在の300mmウエーハから次世代の450mmウエーハに移行するための取り組みについて説明した。ISMIのメンバー企業には,米Intel Corp.や韓国Samsung Electronics Co., Ltd.,台湾Taiwan Semiconductor Manufacturing…
記事の購入(ダウンロード)
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円(税込)
他のIDで購入する
G-Search ミッケ!は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「2ページ(全446字)」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
(注)特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
- Tech−On!Ranking[LSI]〜SeleteとMIRAIは連携できるか? 「つくば半導体コンソーシアム」が正式発表 総括リーダーにはSeleteの渡辺氏
- Tech−On!Ranking[LSI]〜「自社の先端工場こそが顧客満足の源泉」 米TI社長が語る
- Tech−On!Ranking[LSI]〜先端リソグラフィを使いこなす DFM関連ツールの発表が相次ぐ
- Tech−On!Ranking[LSI]〜競争領域の研究開発コストを削減する 米国の“研究開発ファウンドリ”
- Tech−On!Ranking[LSI]〜SIIナノテクと独Carl Zeiss NTSが戦略提携 FIB−SEM装置を共同開発