Tech−On!Ranking[LSI]〜「自社の先端工場こそが顧客満足の源泉」 米TI社長が語る
日経マイクロデバイス 第251号 2006.5.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第251号(2006.5.1) |
---|---|
ページ数 | 1ページ (全330字) |
形式 | PDFファイル形式 (118kb) |
雑誌掲載位置 | 82ページ目 |
米Texas Instruments Inc. のPresident and CEOのRichard K. Templeton氏は,30日に東京で開催した事業戦略説明会で,勝ち組になるための三つの要件を披露した。一つは研究開発重視の戦略である。先端的な製造技術の確保を狙う。同氏は,先端プロセスのアライアンスで投資の圧縮に走る半導体メーカーにくぎを刺し,「アライアンスが最適な方法とは思わない」と述…
記事の購入(ダウンロード)
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円(税込)
他のIDで購入する
G-Search ミッケ!は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ(全330字)」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
(注)特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
- Tech−On!Ranking[LSI]〜半導体製造装置の販売額 2005年は韓国市場が台湾を抜き世界2位に 「世界市場の2005年の縮小は予想通り」
- Tech−On!Ranking[LSI]〜SeleteとMIRAIは連携できるか? 「つくば半導体コンソーシアム」が正式発表 総括リーダーにはSeleteの渡辺氏
- Tech−On!Ranking[LSI]〜450mmウエーハに移行するための取り組みを 米ISMIが紹介
- Tech−On!Ranking[LSI]〜先端リソグラフィを使いこなす DFM関連ツールの発表が相次ぐ
- Tech−On!Ranking[LSI]〜競争領域の研究開発コストを削減する 米国の“研究開発ファウンドリ”