New Products 低ダメージで断面SEM試料を加工〜イオン・ビーム加工装置「E−3500」
日経マイクロデバイス 第245号 2005.11.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第245号(2005.11.1) |
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ページ数 | 1ページ (全597字) |
形式 | PDFファイル形式 (301kb) |
雑誌掲載位置 | 107ページ目 |
断面SEM(走査型電子顕微鏡)の観察試料を,低ダメージで加工できるイオン・ビーム加工装置(図2)。一般に,断面SEMでは,観察試料を機械的に研磨して断面を形成した後,断面表層の傷やひずみを含む層をイオン・ビームで薄く削り取る。この時,イオンの衝突によるダメージを抑えるためには,イオン・ビームの加速電圧を低くすることが望ましい。しかし,従来の装置ではイオン・ビームを放電空間から取り出すために,最低…
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