Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜東芝がオランダＡＳＭＬの露光マスク技術 日本では初めてライセンス取得を公表
日経マイクロデバイス 第245号 2005.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第245号（2005.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全468字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （253kb） |
| 雑誌掲載位置 | 98ページ目 |
東芝は，オランダＡＳＭ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ社（ＡＳＭＬ）の露光マスク技術「Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ Ｂａｒ」のライセンスを取得した。量産向けを前提として同社のラインに採用する。Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ Ｂａｒのライセンスを取得しているＬＳＩメーカーやＳｉファウンドリは２０社以上あるが，取得を公表した企業は日本国内では「東芝が初めて」（エーエスエムエル・ジャパン）とする。Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ Ｂａｒ技…
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