Tech−On!Ranking[LSI]〜産総研が「スピン・トランジスタへの第一歩」 バイポーラ型TMR素子でMR比100%実証
日経マイクロデバイス 第244号 2005.10.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第244号(2005.10.1) |
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ページ数 | 2ページ (全342字) |
形式 | PDFファイル形式 (265kb) |
雑誌掲載位置 | 92〜93ページ目 |
産業技術総合研究所(産総研)は,バイポーラ型のTMR(tunneling magnetoresistive)素子で100%と大きい磁気抵抗(MR)比を実証した。産総研が強磁性電極層の材料として使ったのは,III−V族の化合物半導体GaAsにMnを混入した(Ga,Mn)Asである。トンネル障壁層の材料にII−VI族化合物半導体のZnSeを使うTMR素子で大きなMR比得た。しかし,(Ga,Mn)As…
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