Cover Story 第3部 とびら 製造&設計イノベーション〜製造&設計イノベーション
日経マイクロデバイス 第242号 2005.8.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第242号(2005.8.1) |
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ページ数 | 1ページ (全1599字) |
形式 | PDFファイル形式 (179kb) |
雑誌掲載位置 | 43ページ目 |
第3部要素・技術トレンド●微細化東京工業大学 岩井 洋 44●ウエーハ大口径化ニューフレアテクノロジー 渡辺 正晴 46●高集積化NEC 望月 康則,NECエレクトロニクス 山縣 保司 48●大容量化パイオニア 尾上 篤 50●ガラス基板大型化日本アイ・ビー・エム 北原 洋明 52基本素子・物理●トランジスタ東京大学 高木 信一 54●配線広島大学 吉川 公麿 56●スピン素子東京工業大学 宗片 …
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- Key Person インタビュー 「受益者がいない開発はしない」〜「受益者がいない開発はしない」
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- Cover Story 第3部 トレンド 製造&設計イノベーション 第3部 要素・技術〜トレンド●微細化 SiO2膜をhigh−k膜に置き換え 薄膜化による性能向上を推進
- Cover Story 第3部 トレンド 製造&設計イノベーション 第3部 要素・技術〜トレンド●ウエーハ大口径化 450mm化とSOIに移行 チップ取れ数増,高速化を促す
- Cover Story 第3部 トレンド 製造&設計イノベーション 第3部 要素・技術〜トレンド●高集積化 2010年以降も高集積化を維持 LSIの動作速度向上の限界を打破