ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ニコン，液浸露光装置に 「タンデム・ステージ」を導入
日経マイクロデバイス 第239号 2005.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第239号（2005.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全260字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （50kb） |
| 雑誌掲載位置 | 87ページ目 |
ニコンは，高スループットのステージ技術「タンデム・ステージ」を開口数（ＮＡ）１．０７の液浸露光装置「ＮＳＲ−Ｓ６０９Ｂ」に導入する。タンデム・ステージは，露光ステージの隣に設けた装置校正用の小型ステージを使い，水を抜かずにウエーハを交換する技術である。水の出し入れに必要な時間を削減し，高スループット化を図る。さらに，ウエーハ交換と並行した装置の校正をすることにより，ｈｐ６５以降で求められる高精度…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全260字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜米ＴＩの混載ＦｅＲＡＭやＭＥＭＳデバイスは 携帯電話機に載るのか
ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜米Ｉｎｔｅｌが革新技術方向性示す 「Ｓｉデバイスは今後１０年置き換わらない」
ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜日立金属のＭＥＭＳ加速度センサー １５０ｍｍＳＯＩウエーハでの取れ数
ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＳａｍｓｕｎｇがＰＲＡＭを大容量化 ２５６Ｍビットを実現
ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜米Ｂｅｌｌ研の軍用の新構造Ｓｉマイク 車内の音声認識向け狙う
