Ｓｐｅｃｉａｌ Ｆｅａｔｕｒｅ 次のプロセス・シナリオは，寸法では決まらない〜チャネル技術● 見えてきた移動度向上シナリオ
日経マイクロデバイス 第236号 2005.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第236号（2005.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全8259字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （372kb） |
| 雑誌掲載位置 | 56〜61ページ目 |
高木 信一東京大学，半導体ＭＩＲＡＩプロジェクト 今回の「２００４ ＩＥＥＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｄｅｖｉｃｅｓ Ｍｅｅｔｉｎｇ（２００４ ＩＥＤＭ）」では，６５ｎｍノード（ｈｐ９０）向けの実用的なチャネル移動度向上技術が数多く提案された。これにより，移動度向上技術の実現性が一気に高まった。加えて，４５ｎｍノード（ｈｐ６５）以降，さらに移動度を上げるためのシナリオが見えて…
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