Ｓｐｅｃｉａｌ Ｆｅａｔｕｒｅ〜４５ｎｍ対応の装置技術 製品化につなげる
日経マイクロデバイス 第234号 2004.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第234号（2004.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全795字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （214kb） |
| 雑誌掲載位置 | 116ページ目 |
小松原 隆一 氏常務執行役員 事業企画部門統轄 ２００５年は，４５ｎｍノード（ｈｐ６５）向け装置技術を製品化につなげることに力を注ぐ。具体的には，半導体先端テクノロジーズ（Ｓｅｌｅｔｅ）と共同で開発を進めてきた高誘電率（ｈｉｇｈ−ｋ）膜対応のミニ・バッチ炉や，ＳＰＡ（ｓｌｏｔ ｐｌａｎｅ ａｎｔｅｎｎａ）を使ったプラズマ装置を本格的に市場に投入していく。２００４年７月にわれわれが初めて製品化した液…
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