Ｒｅｐｏｒｔ［Ｌｏｇｉｃ］〜ｈｉｇｈ−ｋ膜のメカニズム解析や 有機半導体素子など最新の話題を総覧
日経マイクロデバイス 第230号 2004.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第230号（2004.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全3052字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （32kb） |
| 雑誌掲載位置 | 91〜92ページ目 |
高誘電率（ｈｉｇｈ−ｋ）材料を使ったゲート絶縁膜のメカニズム解析，フォトニック結晶や有機半導体素子の進展，ＭＲＡＭ（ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ ＲＡＭ）などスピン素子の可能性，ＭＥＭＳ（ｍｉｃｒｏ ｅｌｅｃｔｒｏ ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｓｙｓｔｅｍｓ）のバイオ分野への展開。このような今話題のデバイス・材料技術の最新動向を，９月１５〜１７日に東京で開催される「２００４ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎ…
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