Ｒｅｐｏｒｔ［Ｄｉｓｐｌａｙ］〜ＡＲ反射防止膜のコストを１／２以下へ 大気圧プラズマＣＶＤで高速成膜
日経マイクロデバイス 第230号 2004.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第230号（2004.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1118字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （42kb） |
| 雑誌掲載位置 | 95ページ目 |
アンチ・リフレクション（ＡＲ）方式の反射防止膜注１）を低コストで製造できる技術が登場した。コニカミノルタが開発した大気圧プラズマＣＶＤ技術である。従来のスパッタリング法によるＡＲ反射防止膜に比べて，コストを１／２以下に低減できるという。同社は２００４年内をメドに，この製法によるＡＲ反射防止膜を製品化する計画である（図１）。 従来のＡＲ反射防止膜に使われていたスパッタリング法では成膜室内を１０−３…
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