Ｅｍｅｒｇｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ〜「ナノの光」で極細パターンを実現　“近接場光”がリソの限界を超える
日経マイクロデバイス　第229号　2004.7.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第229号（2004.7.1）
ページ数	1ページ　（全959字）
形式	PDFファイル形式　（39kb）
雑誌掲載位置	5ページ目

　マスクの表面にまとわりつくように生じる光「近接場光」を使って回路パターンを形成する。そんな型破りな手法で，従来のリソグラフィ技術の限界を超えられる可能性が見えてきた。近接場光は，光が照射された物質の表面から数ｎｍ〜１００ｎｍの近傍に生じる電磁波である。マスクに光を当てると，そのエッジには数ｎｍ幅といった極めてシャープな光が生じる。この幅は光の波長で決まる回折限界より狭くできる。このため，既存のリ…