Ｅｍｅｒｇｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ〜ＥＢでＭＥＭＳ加工に変革　直径６０μｍの地球儀を作成
日経マイクロデバイス　第225号　2004.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第225号（2004.3.1）
ページ数	1ページ　（全1026字）
形式	PDFファイル形式　（71kb）
雑誌掲載位置	3ページ目

　ＬＳＩ製造業界で電子ビーム（ＥＢ）描画と言えば，マスクやウエーハへの直描といった平面的な描画に使う技術を指す場合が多い。ＮＴＴ物性科学基礎研究所は，これを微小の立体構造物の加工に応用して，高精度かつ高速のＭＥＭＳ（ｍｉｃｒｏ　ｅｌｅｃｔｒｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　ｓｙｓｔｅｍｓ）製造技術を開発した（図１）。１０ｎｍ以下の加工寸法で立体的な構造物を短時間に加工できる。ＭＥＭＳに使うエッチングなどの既…