ＷＥＢ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｒａｎｋｉｎｇ［製造装置・部材］〜２００４年にＰＯＣ機，２００５年に開発用装置　ニコンがＡｒＦ液浸の　開発スケジュールを明かす
日経マイクロデバイス　第223号　2004.1.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第223号（2004.1.1）
ページ数	1ページ　（全340字）
形式	PDFファイル形式　（115kb）
雑誌掲載位置	119ページ目

　ニコンのＡｒＦ液浸装置の開発スケジュールが明らかになった。２００４年にＰＯＣ（ｐｒｏｏｆ　ｏｆ　ｃｏｎｃｅｐｔ）機を開発し，２００５年にＬＳＩメーカーに市販する開発用装置を「２００５年に出荷することが目標」（同社）である。量産対応機は２００６年に出荷する可能性が高い。ＰＯＣ機は，同社のＡｒＦ露光装置「ＮＳＲ−Ｓ３０７Ｅ」をベースに開発する。ＮＳＲ−Ｓ３０７Ｅと同じレンズ系を使うため，開口数（ＮＡ…