ＷＥＢ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｒａｎｋｉｎｇ［製造装置・部材］〜次世代露光技術の主力を　「ＡｒＦ液浸」に絞ったのはなぜか？　二コンがその理由を明らかに
日経マイクロデバイス　第223号　2004.1.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第223号（2004.1.1）
ページ数	1ページ　（全546字）
形式	PDFファイル形式　（115kb）
雑誌掲載位置	119ページ目

　ニコンが，次世代露光技術の主力を「ほぼＡｒＦ液浸に絞った」（同社執行役員精機カンパニー開発本部本部長の牛田一雄氏）。現在，量産に使われているＡｒＦエキシマ・レーザー露光の次に使われる露光技術としては，ＡｒＦと液浸技術を組み合わせる「ＡｒＦ液浸」と「Ｆ２エキシマ・レーザー」の二つが候補に挙がっている。この中でニコンはＡｒＦ液浸に最も積極的な露光装置メーカーだったが，そのニコンでさえ「２００３年末ま…