ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［製造装置・部材］〜オランダＡＳＭＬ 液浸ＡｒＦのロードマップ示す
日経マイクロデバイス 第223号 2004.1.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第223号（2004.1.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全231字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （115kb） |
| 雑誌掲載位置 | 119ページ目 |
オランダＡＳＭ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（ＡＳＭＬ）社は，液浸を使ったＡｒＦエキシマ・レーザー露光装置の技術開発ロードマップを「セミコン・ジャパン ２００３」で示した。同社初の量産向け評価装置「ＸＴ：１２５０ｉ」は２００４年第３四半期に出荷する。第１号機は台湾Ｔａｉｗａｎ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．（ＴＳＭＣ）が導入を決めている。［→関連記事 本号ｐ…
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