Ｃｏｖｅｒ　Ｓｔｏｒｙ　新製品ファイル〜ニコン，主力を「ＡｒＦ液浸」へ　開発用装置の出荷目標は２００５年
日経マイクロデバイス　第222号　2003.12.1

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掲載誌	日経マイクロデバイス　第222号（2003.12.1）
ページ数	1ページ　（全1422字）
形式	PDFファイル形式　（66kb）
雑誌掲載位置	121ページ目

　ニコンが，次世代露光技術の主力を「ほぼＡｒＦ液浸に絞った」（同社執行役員精機カンパニー開発本部本部長の牛田一雄氏）。現在，量産に使われているＡｒＦエキシマ・レーザー露光の次の露光技術としては，ＡｒＦと液浸技術を組み合わせる「ＡｒＦ液浸」と「Ｆ２エキシマ・レーザー」の二つが候補に挙がっている。ＬＳＩメーカーの多くは，いずれかを使って２００７年以降に始まる４５ｎｍプロセス技術の量産を実施する。この中…