解説［ＬＳＩ製造］東京エレクトロン〜東京エレクトロン（ＴＥＬ）●　プロセスと新乾燥法で勝負
日経マイクロデバイス　第216号　2003.6.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第216号（2003.6.1）
ページ数	2ページ　（全2385字）
形式	PDFファイル形式　（416kb）
雑誌掲載位置	96〜97ページ目

東京エレクトロン洗浄システム部丹生谷　貴行　洗浄技術は，洗浄工程だけを単独で議論することは難しくなってきた。前後のプロセスとの関係を考えた高度なプロセス・インテグレーション技術が必要になっている。このような技術を準備することで顧客の要求に答えていく。インテグレーションが重要　われわれが目指す洗浄技術のロードマップは，微視的には表面制御，巨視的には前後のプロセスとのインテグレーションを実現することで…