解説［ＬＳＩ製造］ 寄稿〜日立国際電気● 高アスペクト比の被覆を達成
日経マイクロデバイス 第213号 2003.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第213号（2003.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 3ページ （全4015字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （353kb） |
| 雑誌掲載位置 | 115〜117ページ目 |
日立国際電気電子機械事業部ＭＭＴプロジェクト小川 雲龍 「ＭＭＴ（Ｍｏｄｉｆｉｅｄ Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ Ｔｙｐｅｄ）」プラズマと呼ぶ技術を使った表面処理装置を開発した。ＭＭＴプラズマは，東北大学教授の佐藤徳芳氏の研究室と共同開発した技術である。広い圧力範囲で，高密度のプラズマを均一に生成することができる１９），２０）。ゲート絶縁膜に加え，トレンチ・キャパシタ絶縁膜のような高アスペクト比の被覆も達成…
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