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日経マイクロデバイス 第213号 2003.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第213号（2003.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2001字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （119kb） |
| 雑誌掲載位置 | 124〜125ページ目 |
製造装置 ＣｕやＴａなど塩化物を作る金属を成膜できるプラズマＣＶＤ装置。２００３年６月に２００ｍｍウエーハ対応の技術実証機の完成を目指す。 金属の成膜には主にスパッタが使われてきたが，微細化に伴って微細パターンに対応しにくい，基板への損傷があるなどの問題が生じてきた。そこでＣＶＤ装置へ移行したいとの要望が出たが，従来のＭＯＣＶＤ装置には，揮発性の有機化合物を作る金属しか成膜できない，金属膜中にＣな…
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