新製品・新サービス〜新製品・新サービス
日経マイクロデバイス　第212号　2003.2.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第212号（2003.2.1）
ページ数	2ページ　（全1836字）
形式	PDFファイル形式　（140kb）
雑誌掲載位置	140〜141ページ目

検査・分析　プラズマＣＶＤ装置やエッチャ，アッシャなどプラズマを使う製造装置のプラズマ異常放電をモニタリングするサービス。さらに，データ解析，コンサルティングも行う。これらのために，異常放電の磁場を測定する技術を新たに開発した。この磁場信号と製造装置の状態を示す信号をリンクさせ，異常放電の発生原因を推定したり，異常放電と歩留まり低下の相関関係を調べたりできる（図１，図２）。異常放電の磁場を直接検出…