技術レター［ＬＳＩ製造］〜プロセス開発で　他社と連携しない理由を　米ＴＩが示す
日経マイクロデバイス　第208号　2002.10.1

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掲載誌	日経マイクロデバイス　第208号（2002.10.1）
ページ数	1ページ　（全426字）
形式	PDFファイル形式　（63kb）
雑誌掲載位置	54ページ目

プロセス研究・開発戦略　米Ｔｅｘａｓ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　Ｉｎｃ．（ＴＩ）は，プロセス技術の開発で競合ＬＳＩメーカーと連携する考えがない理由を，改めて本誌に説明した。ＴＩのＳｅｎｉｏｒ　Ｖｉｃｅ　Ｐｒｅｓｉｄｅｎｔ，　Ｃｈｉｅｆ　Ｓｃｉｅｎｔｉｓｔの西義雄氏は，「競合他社との連携は企業文化のすり合わせなど，スケジュールを遅らせるデメリットの方が大きい」と言う。また同社Ｓｅｎｉｏｒ　Ｖｉｃｅ　Ｐ…