技術レター［ＬＳＩ設計＆ＬＳＩ製造］〜「Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ　２００２」　次世代露光技術の開発を　ＥＵＶに絞る動きが活発化
日経マイクロデバイス　第202号　2002.4.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第202号（2002.4.1）
ページ数	1ページ　（全558字）
形式	PDFファイル形式　（82kb）
雑誌掲載位置	29ページ目

学会露光微細化　次世代露光技術の開発をＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ　ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）に絞る動きが欧米を中心に活発化している。露光技術の国際会議「ＳＰＩＥ’ｓ　２７ｔｈ　Ａｎｎｕａｌ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　ｏｎ　Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ　２００２）」の「Ｅｍｅｒｇｉｎｇ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」のセッションでは１１７件の講演のうち…