技術レター［ＬＳＩ設計＆ＬＳＩ製造］〜「ＶＬＳＩシンポジウム」　プロセスは統合力勝負　回路はギガ級の競争へ
日経マイクロデバイス　第202号　2002.4.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第202号（2002.4.1）
ページ数	1ページ　（全1055字）
形式	PDFファイル形式　（82kb）
雑誌掲載位置	29ページ目

学会プロセス回路技術　プロセスは技術の統合力，回路はギガ級の高速化やｍＷ級の低電力化で差異化する。こうしたＬＳＩ製造・設計技術に関する動きが，６月１１日〜１５日に米国ハワイで開かれる「２００２　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　ｏｎ　ＶＬＳＩ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」と「２００２　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　ｏｎ　ＶＬＳＩ　Ｃｉｒｃｕｉｔｓ」にそれぞれ見える。　プロセスでは，米ＩＢＭ　Ｃｏｒｐ．がひずみＳｉとＨｆＯ２高誘…