特集 Part1〜急進する新材料メモリー 開発・量産競争が本格化
日経マイクロデバイス 第190号 2001.4.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第190号(2001.4.1) |
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ページ数 | 10ページ (全8145字) |
形式 | PDFファイル形式 (180kb) |
雑誌掲載位置 | 62〜71ページ目 |
メモリー 部品・材料 LSIプロセス新材料技術の開発と量産体制の確立。これが,21世紀のメモリーLSIの勝負どころになる。強誘電体メモリー(FeRAM)とMRAM(magnetic RAM)で新材料が重要であることは当然だが,DRAMでもキャパシタに高誘電率膜の採用が必須になり,さらにフラッシュ・メモリーでも新材料の導入が求められるようになった。どのような品種のメモリーLSIが今後の市場で主役の座…
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